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项目介绍:


CINNO Research产业资讯,INVENIA公司25日发布公告称,公司取得了“感应耦合等离子体处理装置用天线组装体及具有该装置的感应耦合等离子体处理装置”专利。


该专利可在干式蚀刻设备上下部之间放置桥接天线,可最大限度减少设备内部绝缘窗及框架条等必要配置物与天线之间的干扰,并调节连接天线高度。



这将提高在工艺空间内形成的等离子体均匀度和设备耐久性,并精确调节等离子体密度,并应用于目前INVENIA正在开发的下一代大尺寸 OLED 和 LCD 用干式蚀刻设备。


干式蚀刻设备使用等离子体精确切割掉如沉积在薄膜晶体管(TFT)基板上的金属和半导体层等不需要的部分,与LCD相比,OLED需要更高的等离子密度和高性能。


INVENIA向 LG显示和中国显示面板厂商 BOE、CSOT 和 HKC 正在供应基板干式蚀刻设备,与日本TEL一同,具有向全球供应大尺寸 LCD 和 OLED 用干式蚀刻设备的业绩。


公司相关人士表示:通过自主开发作为核心装置的天线,在开发具有快速、均匀性强的新一代感应耦合型等离子体(ICP, Inductive Coupled Plasma)方式的干式蚀刻设备方面,确保了技术竞争力。


随着全球对大尺寸OLED面板生产投资的增加,INVENIA的战略是,集中开发下一代设备,抢占包括干式蚀刻设备和OLED生产线设备、真空物流生产线设备、封装(Incap)设备等大尺寸OLED用设备市场。


另外,INVENIA于本月23日从DAW INTERNATIONAL LIMITED获得了位于中国郑州市的CTO第五代TFT真空贴合(ODF)设备的移设工程。订单金额为8亿韩元(约465万人民币)。这不仅是作为现有事业的设备制造的销售,而且是设备移设这一新事业的销售额。

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INVENIA,取得等离子处理天线装置专利

INVENIA,取得等离子处理天线装置专利


CINNO Research产业资讯,INVENIA公司25日发布公告称,公司取得了“感应耦合等离子体处理装置用天线组装体及具有该装置的感应耦合等离子体处理装置”专利。


该专利可在干式蚀刻设备上下部之间放置桥接天线,可最大限度减少设备内部绝缘窗及框架条等必要配置物与天线之间的干扰,并调节连接天线高度。


INVENIA,取得等离子处理天线装置专利


这将提高在工艺空间内形成的等离子体均匀度和设备耐久性,并精确调节等离子体密度,并应用于目前INVENIA正在开发的下一代大尺寸 OLED 和 LCD 用干式蚀刻设备。


干式蚀刻设备使用等离子体精确切割掉如沉积在薄膜晶体管(TFT)基板上的金属和半导体层等不需要的部分,与LCD相比,OLED需要更高的等离子密度和高性能。


INVENIA向 LG显示和中国显示面板厂商 BOE、CSOT 和 HKC 正在供应基板干式蚀刻设备,与日本TEL一同,具有向全球供应大尺寸 LCD 和 OLED 用干式蚀刻设备的业绩。


公司相关人士表示:通过自主开发作为核心装置的天线,在开发具有快速、均匀性强的新一代感应耦合型等离子体(ICP, Inductive Coupled Plasma)方式的干式蚀刻设备方面,确保了技术竞争力。


随着全球对大尺寸OLED面板生产投资的增加,INVENIA的战略是,集中开发下一代设备,抢占包括干式蚀刻设备和OLED生产线设备、真空物流生产线设备、封装(Incap)设备等大尺寸OLED用设备市场。


另外,INVENIA于本月23日从DAW INTERNATIONAL LIMITED获得了位于中国郑州市的CTO第五代TFT真空贴合(ODF)设备的移设工程。订单金额为8亿韩元(约465万人民币)。这不仅是作为现有事业的设备制造的销售,而且是设备移设这一新事业的销售额。

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