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CINNO Research产业资讯,凸版印刷计划在2021年量产用于半导体方向,5纳米(最尖端的蚀刻线宽,1纳米为1米的十亿分之一)的光掩膜板(Photo Mask),以应对新一代移动通信规格(5G)、无人驾驶方向的高机能半导体的需求。此外,凸版印刷还争取在2023年量产3纳米光掩膜板。


资料图(图片来源:互联网)

对于半导体,线路的线宽越细,性能越好,如今,台积电(TSMC)、韩国三星电子都在致力于5纳米半导体的量产,两家公司都在内制光掩膜板的生产。要生产5纳米半导体,需要具备EUV的超高端技术。

凸版印刷计划5纳米生产普及到继三星等之后的“第二梯队”厂家时,开始接光掩膜板的订单。由于5G、无人驾驶等市场的扩大,需要处理大量数据的半导体的需求提升,因此大规模集成线路(LSI)、用于智能手机等的DRAM的细微化在不断发展。

光掩膜板是量产尖端半导体不可或缺的材料,在硅晶圆上刻制线路时使用,发挥着如同照片底片的作用。
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凸版印刷计划2021年量产半导体5nm光掩模板

凸版印刷计划2021年量产半导体5nm光掩模板

CINNO Research产业资讯,凸版印刷计划在2021年量产用于半导体方向,5纳米(最尖端的蚀刻线宽,1纳米为1米的十亿分之一)的光掩膜板(Photo Mask),以应对新一代移动通信规格(5G)、无人驾驶方向的高机能半导体的需求。此外,凸版印刷还争取在2023年量产3纳米光掩膜板。


凸版印刷计划2021年量产半导体5nm光掩模板
资料图(图片来源:互联网)

对于半导体,线路的线宽越细,性能越好,如今,台积电(TSMC)、韩国三星电子都在致力于5纳米半导体的量产,两家公司都在内制光掩膜板的生产。要生产5纳米半导体,需要具备EUV的超高端技术。

凸版印刷计划5纳米生产普及到继三星等之后的“第二梯队”厂家时,开始接光掩膜板的订单。由于5G、无人驾驶等市场的扩大,需要处理大量数据的半导体的需求提升,因此大规模集成线路(LSI)、用于智能手机等的DRAM的细微化在不断发展。

光掩膜板是量产尖端半导体不可或缺的材料,在硅晶圆上刻制线路时使用,发挥着如同照片底片的作用。
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