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CINNO Research 产业资讯,继杜邦决定在韩国投资建设EUV光刻胶开发生产工厂后,韩国半导体面板材料厂东进世美肯(DongJin Seminchem)在去年开始的“脱日本化”大环境下,近日也确定在韩国扩建光刻胶工厂。


韩国产业通商资源部15日表示,东进美肯已确定光刻胶工厂扩建,计划于一季度内动工。东进美肯公司是在2010年作为韩国首家成功量产出EUV光刻胶前段制程氟化氩(ArF)液浸式光刻胶的企业,若新光刻胶工厂扩建顺利,并于明年初跨入量产后,公司的产量将会翻倍提升。

而当天,韩国产业部次官Jeung Seungil莅临东进美肯华城工厂并表示:在政府和民众企业共同努力下,光刻胶和高纯度氟化氢、聚酰亚胺等3大受限品类已经确保了稳定供应。政府将今年作为材料、零部件、设备产业竞争力提升元年,会持续推出相关政策。同时表示,十分期待东进美肯1季度扩产后,进一步稳定韩国光刻胶供应。

光刻胶作为一种光敏材料,是半导体曝光制程在晶圆绘制Pattern的必备材料。根据不同的光波长区分为△KrF·248㎚、 △ArF·193㎚、△EUV·13.5㎚,波长越小就越适合于细微制程。

光刻胶是韩国对日进口依赖度十分高的品类,根据韩国贸易协会数据显示去年1~6月间光刻胶的日本进口比率达92%,去年7月份起日本对韩国进行出口限制后其比率依然为85%。政府和企业为降低对日的依赖,专注于供应多元化和国产化等多方努力。

韩国产业部强调通过比利时(RMQC)、美国(杜邦)、德国(默克)等多国企业实现多元化供应。日本出口限制后,比利时的出口额增加率达1031%, 美国和德国各增加了15.8%和66.7%。杜邦9日时宣布投资2800万美金在韩国建造EUV光刻胶研发制造设施,并将联手韩国主要需求客户进行验证。

业界认为,通过东进美肯本次扩产,ArF光刻胶产量将会大幅提升。此前东进美肯虽一直有生产ArF光刻胶,但产量微乎其微。

东进事美肯华城工厂此前主要生产KrF光刻胶,但扩产后将会大幅提升半导体芯片制程通用的ArF光刻胶,打破日本独霸天下,近日公司为了材料技术的高度专业化,还新购入了新ArF曝光设备。

业界评论:虽然EUV光刻胶作为次世代材料更受瞩目,但实际上ArF的市场规模更大,东进美肯若能乘上国产化东风,公司有望加速进入到ArF光刻胶市场扩张。



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加速韩国本土化!东进世美肯决定扩建光刻胶工厂

加速韩国本土化!东进世美肯决定扩建光刻胶工厂

CINNO Research 产业资讯,继杜邦决定在韩国投资建设EUV光刻胶开发生产工厂后,韩国半导体面板材料厂东进世美肯(DongJin Seminchem)在去年开始的“脱日本化”大环境下,近日也确定在韩国扩建光刻胶工厂。


韩国产业通商资源部15日表示,东进美肯已确定光刻胶工厂扩建,计划于一季度内动工。东进美肯公司是在2010年作为韩国首家成功量产出EUV光刻胶前段制程氟化氩(ArF)液浸式光刻胶的企业,若新光刻胶工厂扩建顺利,并于明年初跨入量产后,公司的产量将会翻倍提升。

而当天,韩国产业部次官Jeung Seungil莅临东进美肯华城工厂并表示:在政府和民众企业共同努力下,光刻胶和高纯度氟化氢、聚酰亚胺等3大受限品类已经确保了稳定供应。政府将今年作为材料、零部件、设备产业竞争力提升元年,会持续推出相关政策。同时表示,十分期待东进美肯1季度扩产后,进一步稳定韩国光刻胶供应。

光刻胶作为一种光敏材料,是半导体曝光制程在晶圆绘制Pattern的必备材料。根据不同的光波长区分为△KrF·248㎚、 △ArF·193㎚、△EUV·13.5㎚,波长越小就越适合于细微制程。

光刻胶是韩国对日进口依赖度十分高的品类,根据韩国贸易协会数据显示去年1~6月间光刻胶的日本进口比率达92%,去年7月份起日本对韩国进行出口限制后其比率依然为85%。政府和企业为降低对日的依赖,专注于供应多元化和国产化等多方努力。

韩国产业部强调通过比利时(RMQC)、美国(杜邦)、德国(默克)等多国企业实现多元化供应。日本出口限制后,比利时的出口额增加率达1031%, 美国和德国各增加了15.8%和66.7%。杜邦9日时宣布投资2800万美金在韩国建造EUV光刻胶研发制造设施,并将联手韩国主要需求客户进行验证。

业界认为,通过东进美肯本次扩产,ArF光刻胶产量将会大幅提升。此前东进美肯虽一直有生产ArF光刻胶,但产量微乎其微。

东进事美肯华城工厂此前主要生产KrF光刻胶,但扩产后将会大幅提升半导体芯片制程通用的ArF光刻胶,打破日本独霸天下,近日公司为了材料技术的高度专业化,还新购入了新ArF曝光设备。

业界评论:虽然EUV光刻胶作为次世代材料更受瞩目,但实际上ArF的市场规模更大,东进美肯若能乘上国产化东风,公司有望加速进入到ArF光刻胶市场扩张。



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