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项目介绍:


SK海力士自今年一季度起到二季度连续两季度出现业绩跳水(Earning Shock)的局面。主要因半导体价格暴跌和中美贸易战的双重影响。SK海力士预告将对DRAM和NAND Flash进行减产。


中美贸易影响下,半导体价格持续下跌


根据SK海力士25日发布的业绩,公司二季度销售额为6万4522亿韩元(约375.4亿人民币),同比减少38%;营业利润为6376亿韩元(约38亿人民币),同比骤减89%。


虽然销售额小幅高于市场预期(平均预测值)的6万4292亿韩元,但营业利润与市场预期(7441亿韩元)有较大差异。营业利润率对比去年降低了44个百分点,仅有10%。与同样出现Earning Shock的一季度相比销售额和营业利润也分别降低了5%和53%,堪称是最差的成绩单。



SK海力士说明称“主要原因是半导体需求恢复水准未达到预期,价格下降幅度比预想的要大。”


公司积极对应DRAM需求增幅相对较大的Mobile和PC市场,出货量对比上季度增长了13%,但因价格持续处于低谷,平均售价反而降低了24%。NAND Flash降价导致需求恢复,出货量环比增长40%,但平均售价下降了25%。


SK海力士分析称服务器用DRAM需求仍旧低迷,再加上中美贸易纠纷影响,Mobile DRAM市场不确定性正在扩大。但是从二季度末开始呈现恢复态势的PC显卡DRAM需求在下半年预计将会持续增长。NAND Flash方面,预计下半年供应商库存压力将迅速减少,供需不平衡现象将会逐渐消减。连续的业绩跳水使得SK海力士决定对半导体生产和投资进行调整。SK海力士将实行减产措施。


DRAM将从四季度开始减产。下半年利川M10工厂的DRAM部分产线将转换为最近成长中的CMOS图像传感器(CIS)量产用产线,再加上DRAM微细工程转换带来的生产量减少影响,公司方面预测,明年DRAM生产量将持续减少。


曾宣布比去年减产10%以上的NAND Flash晶圆投入量减产幅度也扩大到了15%以上。


设备投资也将重新考虑。SK海力士称“清州M15工厂的洁净室增设和明年下半年将竣工的利川M16工厂设备搬入将根据需求情况进行调整。”


但公司强调了在新一代微细工程技术开发和高容量高附加值为主的产品销售方面,将会着重改善。


SK海力士称“10纳米级1代(1X)和2代(1Y)生产比重年末将提高到80%,采用10纳米级2代工程的产品从下半年将以计算机用为主开始销售。”


另外,“NAND Flash以72层为中心运营,从下半年开始增加96层4D NAND比重,重点进攻高规格智能手机和SSD(Solid State Drive)市场。将推动128层1Tb TLC(Triple Level Cell) 4D NAND的顺利量产和销售。”


公司方面称“将根据市场环境变化来调整生产和投资,为应对存储芯片(Memory)中长期增长趋势,将持续强化产品技术竞争力。”



SK欲摆脱对日本依赖!


SK Materials,准备Etching Gas(蚀刻气体)生产,目标今年内送样,反映集团国产化意志,预计明年上半年正式量产。


SK正式着手半导体制造用的高纯度氟化氢的韩国国产化。作为应对本月初日本政府宣布对韩出口限制后SK集团方面的应对措施,通过子公司实现国产化目标。随着日本的经济报复扩大很可能长期化进行,韩国半导体厂商纷纷亮出了隐藏的战略。


SK海力士利川工厂全景 (图片来源:Etnews)


7月25日业界消息,SK集团子公司SK Materials正在准备氟化氢的生产,目标在今年内送样。SK Materials相关人士称“目前正开发相关设备”,并称“目标在今年内送样。”


SK Materials正在准备的氟化氢是“Etching Gas(蚀刻气体)”用于擦拭半导体电路的蚀刻工程和去除硅晶圆的异物质的洗净工程。在半导体生产上,液态的氟化氢和气体两种进行混用。液态产品是“蚀刻液(Etchant)”,气态则是“蚀刻气体(Etching Gas)”。


SK Materials以自主研发技术为基础,计划生产气体氟化氢,即Etching Gas,向半导体厂商供应。考虑到年底将出样品,预计正式量产供应在明年上半年内。


SK Materials从1982年开始一直专业生产半导体材料。并成功实现了用于半导体,显示,太阳能电池等的三氟化氮(NF3)的韩国国产化。并且供应六氟化钨(WF6)等蒸镀气体,石油化学,钢铁等产业用气体。


公司从大白物产开始起步,于2008年编入OCI,2015年SK收购了OCI Materials,成为了SK集团的子公司.。SK Materials生产氟化氢还是首次。


公司方面称“公司生产氟化氢的原材料氟(F),并且积累了精密气体方面的技术实力,判断已经具备了生产高纯度氟化氢的基础。”


产能等SK Materials的具体投资规模尚未确认到。另外,需要经过品质认证,能否实际应用于半导体工程还是未知数。


但是SK Materials进军氟化氢事业事业在日本政府出口管制措施后正式启动,这引起业界关注。因为这反映了SK集团实现核心半导体材料国产化的意志,尤其要直接生产日本政府出口限制清单中的氟化氢这一材料。随着国产化比重越高,日本材料的立足之地越小。这可以看作是“脱日本化”的开始。


半导体业界相关人士称“日本产氟化氢供应何时能再次正常化尚不透明,反而日本经济报复可能会扩大并长期化的趋势明显,SK海力士为了确保半导体事业可持续性,SK集团内特殊气体专业厂商SK Materials身先士卒”


根据业界消息,SK海力士和三星电子预料到日本的经济报复,从去年就开始准备核心材料国产化和供应渠道多元化。


蚀刻气体由SK Materials正式开启国产化,蚀刻液国产化则由韩国Soulbrain进行。Soulbrain已经向三星电子和SK海力士供应了自主开发的蚀刻液,此前计划今年末进行的增设也提前到了今年9月进行。

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SK 海力士 | 公布Q2成绩单,盈利暴跌88%;现欲氟化氢国产化,目标在今年内送样!


SK 海力士 | 公布Q2成绩单,盈利暴跌88%;现欲氟化氢国产化,目标在今年内送样!

SK海力士自今年一季度起到二季度连续两季度出现业绩跳水(Earning Shock)的局面。主要因半导体价格暴跌和中美贸易战的双重影响。SK海力士预告将对DRAM和NAND Flash进行减产。


中美贸易影响下,半导体价格持续下跌


根据SK海力士25日发布的业绩,公司二季度销售额为6万4522亿韩元(约375.4亿人民币),同比减少38%;营业利润为6376亿韩元(约38亿人民币),同比骤减89%。


虽然销售额小幅高于市场预期(平均预测值)的6万4292亿韩元,但营业利润与市场预期(7441亿韩元)有较大差异。营业利润率对比去年降低了44个百分点,仅有10%。与同样出现Earning Shock的一季度相比销售额和营业利润也分别降低了5%和53%,堪称是最差的成绩单。


SK 海力士 | 公布Q2成绩单,盈利暴跌88%;现欲氟化氢国产化,目标在今年内送样!


SK海力士说明称“主要原因是半导体需求恢复水准未达到预期,价格下降幅度比预想的要大。”


公司积极对应DRAM需求增幅相对较大的Mobile和PC市场,出货量对比上季度增长了13%,但因价格持续处于低谷,平均售价反而降低了24%。NAND Flash降价导致需求恢复,出货量环比增长40%,但平均售价下降了25%。


SK海力士分析称服务器用DRAM需求仍旧低迷,再加上中美贸易纠纷影响,Mobile DRAM市场不确定性正在扩大。但是从二季度末开始呈现恢复态势的PC显卡DRAM需求在下半年预计将会持续增长。NAND Flash方面,预计下半年供应商库存压力将迅速减少,供需不平衡现象将会逐渐消减。连续的业绩跳水使得SK海力士决定对半导体生产和投资进行调整。SK海力士将实行减产措施。


DRAM将从四季度开始减产。下半年利川M10工厂的DRAM部分产线将转换为最近成长中的CMOS图像传感器(CIS)量产用产线,再加上DRAM微细工程转换带来的生产量减少影响,公司方面预测,明年DRAM生产量将持续减少。


曾宣布比去年减产10%以上的NAND Flash晶圆投入量减产幅度也扩大到了15%以上。


设备投资也将重新考虑。SK海力士称“清州M15工厂的洁净室增设和明年下半年将竣工的利川M16工厂设备搬入将根据需求情况进行调整。”


但公司强调了在新一代微细工程技术开发和高容量高附加值为主的产品销售方面,将会着重改善。


SK海力士称“10纳米级1代(1X)和2代(1Y)生产比重年末将提高到80%,采用10纳米级2代工程的产品从下半年将以计算机用为主开始销售。”


另外,“NAND Flash以72层为中心运营,从下半年开始增加96层4D NAND比重,重点进攻高规格智能手机和SSD(Solid State Drive)市场。将推动128层1Tb TLC(Triple Level Cell) 4D NAND的顺利量产和销售。”


公司方面称“将根据市场环境变化来调整生产和投资,为应对存储芯片(Memory)中长期增长趋势,将持续强化产品技术竞争力。”



SK欲摆脱对日本依赖!


SK Materials,准备Etching Gas(蚀刻气体)生产,目标今年内送样,反映集团国产化意志,预计明年上半年正式量产。


SK正式着手半导体制造用的高纯度氟化氢的韩国国产化。作为应对本月初日本政府宣布对韩出口限制后SK集团方面的应对措施,通过子公司实现国产化目标。随着日本的经济报复扩大很可能长期化进行,韩国半导体厂商纷纷亮出了隐藏的战略。


SK 海力士 | 公布Q2成绩单,盈利暴跌88%;现欲氟化氢国产化,目标在今年内送样!

SK海力士利川工厂全景 (图片来源:Etnews)


7月25日业界消息,SK集团子公司SK Materials正在准备氟化氢的生产,目标在今年内送样。SK Materials相关人士称“目前正开发相关设备”,并称“目标在今年内送样。”


SK Materials正在准备的氟化氢是“Etching Gas(蚀刻气体)”用于擦拭半导体电路的蚀刻工程和去除硅晶圆的异物质的洗净工程。在半导体生产上,液态的氟化氢和气体两种进行混用。液态产品是“蚀刻液(Etchant)”,气态则是“蚀刻气体(Etching Gas)”。


SK Materials以自主研发技术为基础,计划生产气体氟化氢,即Etching Gas,向半导体厂商供应。考虑到年底将出样品,预计正式量产供应在明年上半年内。


SK Materials从1982年开始一直专业生产半导体材料。并成功实现了用于半导体,显示,太阳能电池等的三氟化氮(NF3)的韩国国产化。并且供应六氟化钨(WF6)等蒸镀气体,石油化学,钢铁等产业用气体。


公司从大白物产开始起步,于2008年编入OCI,2015年SK收购了OCI Materials,成为了SK集团的子公司.。SK Materials生产氟化氢还是首次。


公司方面称“公司生产氟化氢的原材料氟(F),并且积累了精密气体方面的技术实力,判断已经具备了生产高纯度氟化氢的基础。”


产能等SK Materials的具体投资规模尚未确认到。另外,需要经过品质认证,能否实际应用于半导体工程还是未知数。


但是SK Materials进军氟化氢事业事业在日本政府出口管制措施后正式启动,这引起业界关注。因为这反映了SK集团实现核心半导体材料国产化的意志,尤其要直接生产日本政府出口限制清单中的氟化氢这一材料。随着国产化比重越高,日本材料的立足之地越小。这可以看作是“脱日本化”的开始。


半导体业界相关人士称“日本产氟化氢供应何时能再次正常化尚不透明,反而日本经济报复可能会扩大并长期化的趋势明显,SK海力士为了确保半导体事业可持续性,SK集团内特殊气体专业厂商SK Materials身先士卒”


根据业界消息,SK海力士和三星电子预料到日本的经济报复,从去年就开始准备核心材料国产化和供应渠道多元化。


蚀刻气体由SK Materials正式开启国产化,蚀刻液国产化则由韩国Soulbrain进行。Soulbrain已经向三星电子和SK海力士供应了自主开发的蚀刻液,此前计划今年末进行的增设也提前到了今年9月进行。

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