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CINNO  Research产业资讯,极紫外光刻(EUV)在半导体线路的微缩化进程中极为重要,在“极紫外光刻曝光”相关工序中,日本设备厂家的存在感在逐步提升。荷兰ASML独霸关键曝光设备市场,日本企业则在检测、感光材料涂布、成像等相关设备方面占有较高的市场份额。然而,一台尖端的EUV相关设备价格高昂,对半导体厂家来说是较重的投资负担。长期来看,持续增长的EUV设备导入投资究竟能持续到何时,目前还不确定。


Lasertec是一家专业的极紫外光刻(EUV光刻)制造测试设备的公司,2020年7月-9月期间的半导体相关设备的订单金额是2019年同期的2.6倍。为满足市场的需求,目前已增加了数家代工企业。

 (图片来源:日本雅虎新闻)

需求增长尤其旺盛的是采用极紫外线(EUV)的EUV光罩(半导体线路的光掩模版、掩膜版)的缺陷检验设备,Lasertec公司持有全球市场100%的份额。之前光罩检测主要采用深紫外光(DUV)光源,,而EUV的波长较DUV更短,产品缺陷检测灵敏度更高。DUV光虽然也可以应用于当下最先进的工艺5纳米(一纳米等于一米的十亿分之一)中,而Lasertec公司的经营企划室室长三泽祐太朗指则出,“随着微缩化的发展,在步入2纳米制程时代,DUV的感光度可能会不够充分”!即,采用EUV光源检测设备的需求有望进一步增长。

东京电子的EUV涂布显影设备(Coater Developer)市场份额为100%!东京电子的河合利树社长指出,如果EUV的导入能促进整个半导体制程技术进步的话,与EUV没有直接关联领域的工序数也会增加。此外,各种设备的性能也会得以提高。对成膜、蚀刻等设备也会带来一定的积极影响。

乘着第五代移动通信(5G)普及的“顺风”,半导体微缩化需求逐步高涨,半导体厂家都在加速导入EUV。大型Foundry(半导体代工厂)厂家台积电(TSMC)灵活运用EUV技术,不仅在2020年春季成功启动5纳米的量产,且计划在2022年开始量产3纳米工艺。韩国三星电子也即将量产5纳米制程。此外,EUV不仅适用于逻辑IC,也可用于DRAM,未来发展前景可期。


但是,也有一些令人担忧的因素。一台尖端EUV曝光设备价格高达200亿日元(约12亿人民币),甚至更高,且周边设备的价格也在持续高额化。可以预想,随着半导体制程微缩化的发展,今后半导体的成本价很可能会超过之前的完成品价格。日立High-Tech的石和太专务执行董事提出,“在微缩化技术的极限到来之前,经济价值的极限应该会率先到来”!在提高半导体性能方面, 除了研究微缩化进程,科研人员也在开始研究竖直堆叠的半导体芯片“立体化”方法。希望日本的半导体设备厂家能够预测到人们对EUV微缩化的追求会持续到何时。

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半导体|日本厂商在EUV半导体设备中市占逐步提升

半导体|日本厂商在EUV半导体设备中市占逐步提升

CINNO  Research产业资讯,极紫外光刻(EUV)在半导体线路的微缩化进程中极为重要,在“极紫外光刻曝光”相关工序中,日本设备厂家的存在感在逐步提升。荷兰ASML独霸关键曝光设备市场,日本企业则在检测、感光材料涂布、成像等相关设备方面占有较高的市场份额。然而,一台尖端的EUV相关设备价格高昂,对半导体厂家来说是较重的投资负担。长期来看,持续增长的EUV设备导入投资究竟能持续到何时,目前还不确定。


Lasertec是一家专业的极紫外光刻(EUV光刻)制造测试设备的公司,2020年7月-9月期间的半导体相关设备的订单金额是2019年同期的2.6倍。为满足市场的需求,目前已增加了数家代工企业。

半导体|日本厂商在EUV半导体设备中市占逐步提升
 (图片来源:日本雅虎新闻)

需求增长尤其旺盛的是采用极紫外线(EUV)的EUV光罩(半导体线路的光掩模版、掩膜版)的缺陷检验设备,Lasertec公司持有全球市场100%的份额。之前光罩检测主要采用深紫外光(DUV)光源,,而EUV的波长较DUV更短,产品缺陷检测灵敏度更高。DUV光虽然也可以应用于当下最先进的工艺5纳米(一纳米等于一米的十亿分之一)中,而Lasertec公司的经营企划室室长三泽祐太朗指则出,“随着微缩化的发展,在步入2纳米制程时代,DUV的感光度可能会不够充分”!即,采用EUV光源检测设备的需求有望进一步增长。

东京电子的EUV涂布显影设备(Coater Developer)市场份额为100%!东京电子的河合利树社长指出,如果EUV的导入能促进整个半导体制程技术进步的话,与EUV没有直接关联领域的工序数也会增加。此外,各种设备的性能也会得以提高。对成膜、蚀刻等设备也会带来一定的积极影响。

乘着第五代移动通信(5G)普及的“顺风”,半导体微缩化需求逐步高涨,半导体厂家都在加速导入EUV。大型Foundry(半导体代工厂)厂家台积电(TSMC)灵活运用EUV技术,不仅在2020年春季成功启动5纳米的量产,且计划在2022年开始量产3纳米工艺。韩国三星电子也即将量产5纳米制程。此外,EUV不仅适用于逻辑IC,也可用于DRAM,未来发展前景可期。

半导体|日本厂商在EUV半导体设备中市占逐步提升

但是,也有一些令人担忧的因素。一台尖端EUV曝光设备价格高达200亿日元(约12亿人民币),甚至更高,且周边设备的价格也在持续高额化。可以预想,随着半导体制程微缩化的发展,今后半导体的成本价很可能会超过之前的完成品价格。日立High-Tech的石和太专务执行董事提出,“在微缩化技术的极限到来之前,经济价值的极限应该会率先到来”!在提高半导体性能方面, 除了研究微缩化进程,科研人员也在开始研究竖直堆叠的半导体芯片“立体化”方法。希望日本的半导体设备厂家能够预测到人们对EUV微缩化的追求会持续到何时。

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